გამოფენები და ფორუმები › კატეგორიები • ქვეყნები • ქალაქები • ორგანიზატორები • გამართვის ადგილი •

გამოფენები და ფორუმები

ინფორმაცია ღონისძიების ადგილის, ორგანიზატორის და მონაწილეების შესახებ

ავტოთარგმანის ბეტა ვერსია. თარგმნის ხარისხი შეიძლება არ იყოს კარგი

SPIE Photomask Technology


გამართ. ადგილი:	Monterey Conference Center
ქვეყანა:	Monterey, აშშ
მისამართი:	One Portola Plaza, Monterey
თარიღი:	19-09-2011 22-09-2011
კატეგორია:	სამრეწველო საქონელი
მონაწილეები:	28+

აღწერა:

The Annual SPIE/BACUS Symposium is the premier worldwide technical conference and exhibition for the photomask industry. With the deep sub-wavelength era upon us, the industry's progress will depend on the successful integration and optimization of design, mask-making, and wafer fabrication.

პროფილი:

Coverage Area: 58,000 Square Feet

Visitors: Engineers and designers, Corporate managers from the mask making industry, Application and product developers, Mask and chip designers, Resist chemists, Quality assurance specialists, Experts in mask infrastructure and mask integration, People working in emerging mask technologies are the target visitors.

Exhibitors: Profile for exhibit includes Electron-Beam Lithography, EUV, Metrology, Lasers, Nanotechnology, Optical/Laser Microlithography, Resist Technology and Processing, Software, Electronic Imaging Components.